真空镀膜研究性课题（2012参考）热蒸发镀膜1.蒸发与膜厚测量（2~3组）蒸发不同测材料，尝试多种膜厚的测试方法，比如干涉显微镜、椭偏仪、红外吸收、AFM等。针对不同的膜厚区间选择合适的测量方法。如果有自创想法更好，比如用激光光斑打在台阶处，看能否形成干涉条纹。用此法还可以对晶振仪的参数进行校正。对于吸收系数可以考虑表征薄膜的致密度。2.尝试合金的制备与表征用1#仪器同时蒸发两种材料，可以用晶振仪来监测它们各自的速率，以控制合金的组分。材料选择一方面要易于形成合金，另一方面要适合热蒸发。3.尝试金属多层膜的制备与表征以前有人做出来了，但是表征有些困难。要思考比较有应用的多层膜，膜层不能超过10层，否则做起来麻烦4.研究使金属薄膜与基底结合牢固的方法一般金属薄膜热蒸发沉积在玻璃衬底上容易脱落，但是如果预先蒸上或者溅射上一层Ti作为中间层，则最终镀上去的金属薄膜会很结实5.研究金属薄膜的剥离方法去年做了Ag，这个结果拿了竞赛一等奖。可以考虑其它材料，而且剥离较薄的材料，尺寸可以小一些，然后剥离下来的可以研究红外吸收性能。6.在衬底上镀Ag，然后研究他们的SERS性能（1~2组）Ag是SERS性能较好的材料，衬底选择可以是硅、玻璃、毛玻璃、石墨烯等，并比较它们的增强效果。其中后面两种可能性能提高会较大。而且还可以研究镀Ag厚度与SERS性能的关系。7.定量研究薄膜厚度与镀膜条件的关系真空镀膜制备的薄膜厚度与真空室清洁程度、本底真空度、基体温度、溅射功率、溅射气体压力、靶材纯度等条件有关。主要是改变材料（Al、Cu、Ni、Ag等）、镀膜功率（通过调节施加在蒸发舟上的电压和电流）、镀膜时间。比较建议用Cu，价格便宜而且蒸发稳定，比较容易调节的有镀膜功率，镀膜时间等。8.热蒸发镀Cu、Ni薄膜，然后作为生长石墨烯的衬底厚度要求几百ｎｍ，石墨烯用ＣＶＤ的方式生长，用光学显微镜、ｒａｍａｎ光谱仪来对石墨烯进行表征9.用AFM来研究薄膜的生长机理10.金属薄膜的吸收、反射、透射研究11.金属薄膜对辐射的吸收12.薄膜表面放电现象的研究13.薄膜附着力研究，可以考虑镀中间膜层以增加附着力溅射镀膜1.溅射ZnO薄膜并进行表征和测试（1~2组）我们有新的溅射镀膜机，ZnO薄膜的质量与衬底温度、溅射速率、氧分压等都有关系，作为新的仪器需要来研究合适的实验参数。表征方面可以做XRD、SEM、椭偏仪等，测试方面可以做PL、吸收等。可以研究不同的实验参数对结构、成分、性能的影响。2.溅射SiO2、Al2O3...
