Vol.33No.01（SerialNo.318）FOSHANCERAMICS水性高分子分散剂是广泛存在于人们生产生活中的一类分散剂。在水性条件下，它对于色料颗粒的研磨和分散机制有两种：双电层理论和空间位阻理论。根据DLVO理论，水性浆料中颗粒的分散和稳定取决于颗粒间的双电层挤压重叠而产生静电排斥能和vanderWaals吸引能[1]。某实验合成了一种聚羧酸类水性高分子分散剂，并将其用于水性浆料中纳米二氧化硅颗粒的分散，取得很好的效果[2]。这说明，含聚丙烯酸类的阴离子型水性高分子分散剂具有较优异的静电排斥性能，这对色料颗粒具有较好的分散性能。此外，PEG和PVP等这类非离子型水性高分子表面活性剂，对水性浆料中的颗粒具有分散稳定性，主要表现为空间位阻能，因此通常也被用作分散剂使用[3-4]。PEG分子可以比较轻易地吸附在颗粒表面而形成高分子膜，而这层高分子膜可以在一定程度上抵消颗粒间的vanderWaals吸引能，使得颗粒在研磨过程中的表面能降低，从而颗粒具有一定的稳定性。因此，本论文主要是将自制的阴离子型水性高分子分散剂PAI与商用的聚乙二醇进行复配。将其作为复合分散剂来添加到镨锆黄色料颗粒的研磨过程中，采用激光粒度的方式来分析其研磨的效果，同时将研磨液静置沉降，分析其分散稳定性能。1实验1.1原料本文中所使用的阴离子型水性高分子分散剂PAI为本实验室制备[5]，聚乙二醇（PEG2000，PEG600，PEG400和PEG200）购置于广州化学试剂厂。本文所使用的色料颗粒为镨锆黄（Pr-ZrSiO4，D50=8.849μm）由广东佛山欧神诺陶瓷有限公司所提供。1.2研磨本论文所应用于Pr-ZrSiO4色料颗粒的研磨是采用了一种中国深圳叁星飞荣机械有限公司制造的，型号为WS-0.3的转头式砂磨机。该砂磨机中的研磨介质是尺寸为2-3mm的钇稳定的氧化锆磨珠。1.3表征Pr-ZrSiO4颗粒样品的粒度尺寸和粒度分布（PSD）由型号为BT9300S的激光粒度仪（丹东百特仪器公司）来测定。研磨后的Pr-ZrSiO4颗粒水性浆料的粘度值由型号为NDJ1的粘度计（上海昌吉地质仪器有限公司）来测定。Pr-ZrSiO4颗粒水性浆料的稳定率是通过静置沉降的方式，其方法为在垂直含刻度的玻璃试管中倒入待测的Pr-ZrSiO4颗粒水性浆料，然后将其静置在桌面上，并在规定的时间内记录待测的Pr-ZrSiO4颗粒水性浆料的沉降高度。它的稳定率(F)由计算：F=（H-h）H×100%（1）聚乙二醇对镨掺杂硅酸锆色料颗粒的研磨和分散的影响研究黄广华（深圳职业技术学院霍夫曼先进材料研究院博士后创新实践基地，深圳518055）摘要：本论文...
